天选美一直都在修改芯片规则，ASML光刻机能否自由出货，成了厂商以及A关心的重点，如今，A正式做出回应，光刻机出货尘埃落定。
所以ASML的EUV光刻机一开始就不能自由出货，国内厂商早已全款订购，ASML至今都没有交付。
芯片规则修改后，DUV光刻机也受到了一定约束，在美生产制造的DUV光刻机，出货则需要许可。
结果美却对ASML进行游说，希望其收紧国际主流光刻机的出货范围，但遭到了ASML的拒绝。
随后美又拉上日荷搞出了三方协议，进一步限制光刻机等半导体设备出货，ASML也承认美日荷已经达成秘密协议，详细协议内容并没有对外公布。
对此，更多厂商关心的是ASML的DUV光刻机能否自由出货，已经预定的DUV光刻机等设备，能否按时交付。
如今，ASML也正式给出回应，称三方协议不会影响ASML 2022年营收，预计今年国内市场营收22亿欧元，这意味着已经下定的客户，是可以如期收到产品。
ASML在官网发布了关于出货限制的相关圣米格，称三方协议主要限制先进工艺芯片制造设备。
ASML进一步解释称，先进半导体设备主要是临界沉浸式，主要包含TWINSCAN NXT:2000i和后续的沉浸式系统，这些产品是不能出货的。
这意味着三方协议落地实施后，ASML将只能出货1980Di型号的沉浸式光刻机，该光刻机精度为38nm，主要生产制造14nm以上工艺。
但是，台积电就是用1980Di型号的DUV光刻机，量产了第一代7nm芯片，采用的是多层曝光工艺，只是良品率有点低、成本有点高。
关键是,ASML还明确表示，国内厂商目前主要是集中在成熟工艺，而型号为1980Di型号的DUV光刻机仍可以继续出货，不会给国内厂商带来多少影响。
总而言之就是，ASML目前仍能够继续出货部分型号的DUV光刻机，这一出货许可将会在未来一段时间内不受影响。
虽然三方协议内容已经流出，但比尔盖茨明确表示美限制中国技术发展的努力注定要失败，该做法只会迫使中国花时间和金钱来制造自己的芯片，却永远无法成功阻止中国拥有强大的芯片。
一方面是因为国内厂商早就已经未雨绸缪，大量购入ASML等厂商的光刻机产品，仅中芯国际就一次性购买了价值11亿美元的设备；
另一方面是国内芯片半导体技术也在快速发展，90nm光刻机已经取得突破，28nm精度的光刻机也通过了技术验证，实现量产也将是时间问题。
更何况，国内厂商还在发展先进的芯片封装技术、堆叠芯片、量子芯片以及光电芯片等，这些产品都能够降低对ASML的光刻机的依赖。
