众所周知，光刻是芯片制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤，其成本占总生产成本的30%以上，同时占据了将近50%的生产周期。

　　数十年来，在DUV、EUV光刻机的支持下，摩尔定律得到了延续。然而，迭代至今，面对芯片晶体管线宽已趋近物理极限，以及EUV光刻机产能有限、成本高等问题，业界开始加强探索绕开EUV光刻机生产高端芯片的技术和工艺。

　　其中，纳米压印技术（NIL）走到了台前。纳米压印技术，就是被认为最有可能替代EUV的下一代光刻技术。

　　纳米压印分为三类：1热压印、2紫外压印、3微接触印刷，具体介绍可戳图放大查看。

　　纳米压印光刻技术能达到很高的分辨率，最高分辨率可达2纳米。天选团队此外，模板可以反复使用，大大降低了加工成本，也有效缩短了加工时间。也正是集各种优点于一身，纳米压印技术具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的技术优点，被认为是一种有望代替现有光刻技术的加工手段。

　　受益于全球半导体产能的扩张，日本佳能公司在传统光刻机领域获益颇丰。宣布扩大光刻机产能，投资额约380亿日元，这属于20多年来首次。不仅如此，佳能还宣布将生产纳米压印光刻设备，称之为下一代设备。

　　中国要打破光刻机困局，必定不会坐以待毙。那么国内有哪些企业正在攻关这一技术呢？典型的如天仁微纳，获得了中芯聚源、哈勃投资等头部机构的认可，研发了多款高精度紫外纳米压印设备，适用于DOE、AR/VR衍射光波导、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、天选微透镜阵列等应用领域。

　　纳米压印科技听上去简单，真要付诸行动，摆在研发企业面前的困难还很多，举个例子：压印过程中聚合物图形和掩膜间会进入空气，如同手机贴膜过程中混入气泡一般，纳米压印也会产生与掩膜不贴合的情况，一旦进入空气，就会成为残次品，无法正常工作。但还是对国内企业抱有很大期待，希望能够快速解决研发路上的拦路虎，早日打破光刻机卡脖子的局面！