光刻机的新希望:纳米压印光科技!6家中国企业带头研发
作者:管理员    发布于:2023-05-20 17:02:52    文字:【】【】【

  众所周知,光刻是芯片制造过程中最重要、最复杂也最昂贵的工艺步骤,其成本占总生产成本的30%以上,同时占据了将近50%的生产周期。

  数十年来,在DUV、EUV光刻机的支持下,摩尔定律得到了延续。然而,迭代至今,面对芯片晶体管线宽已趋近物理极限,以及EUV光刻机产能有限、成本高等问题,业界开始加强探索绕开EUV光刻机生产高端芯片的技术和工艺。

  其中,纳米压印技术(NIL)走到了台前。纳米压印技术,就是被认为最有可能替代EUV的下一代光刻技术。

  纳米压印分为三类:1热压印、2紫外压印、3微接触印刷,具体介绍可戳图放大查看。

  纳米压印光刻技术能达到很高的分辨率,最高分辨率可达2纳米。天选团队此外,模板可以反复使用,大大降低了加工成本,也有效缩短了加工时间。也正是集各种优点于一身,纳米压印技术具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的技术优点,被认为是一种有望代替现有光刻技术的加工手段。

  受益于全球半导体产能的扩张,日本佳能公司在传统光刻机领域获益颇丰。宣布扩大光刻机产能,投资额约380亿日元,这属于20多年来首次。不仅如此,佳能还宣布将生产纳米压印光刻设备,称之为下一代设备。

  中国要打破光刻机困局,必定不会坐以待毙。那么国内有哪些企业正在攻关这一技术呢?典型的如天仁微纳,获得了中芯聚源、哈勃投资等头部机构的认可,研发了多款高精度紫外纳米压印设备,适用于DOE、AR/VR衍射光波导、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、天选微透镜阵列等应用领域。

  纳米压印科技听上去简单,真要付诸行动,摆在研发企业面前的困难还很多,举个例子:压印过程中聚合物图形和掩膜间会进入空气,如同手机贴膜过程中混入气泡一般,纳米压印也会产生与掩膜不贴合的情况,一旦进入空气,就会成为残次品,无法正常工作。但还是对国内企业抱有很大期待,希望能够快速解决研发路上的拦路虎,早日打破光刻机卡脖子的局面!

脚注信息
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