我国在半导体行业的研发当中，其中最重要的就是芯片研制的相关技术。而且在这一方面，美国对我国实行了一定的制裁，同时还限制其他国家和我国进行相关合作，不过就目前的情况来看，我国显然在芯片领域有了一定的起色。
尤其在现在对于光刻机的研发，虽然我们主要进口的都是ASML这一企业的，但是长时间对国外有太大的依赖并不利于我国今后半导体行业的发展。
因此在这样的一个大前提下，我国对于光刻机的研发也在不断地进行着，在目前我国已经研制出新型光刻机，而且它可以实现22nm工艺制程，现在已经正式投入使用，对于在这样的情况之下，美国媒体也报道说，关于EUV光刻机的时代已经开始落幕。
在芯片研制的过程当中，光刻机是非常重要的一个部分，因为对芯片研制的过程当中包含设计、制造还有封装，其中都是非常重要的还是在制造的过程当中，而制造过程正是需要依赖光刻机的使用，并且随着工艺制程的不断提高，要求也会随这就更高。
一般情况下，从生产线到相关的材料其中花费的资金就需要达到几十亿美元，而对于一些小于10nm的高端芯片更需要投入上百亿美元的资金。
而且在这之中一台EUV光刻机的价格就需要1.2亿美元，所以说在这一方面花费的成本十分的庞大，所以在这一方面如果我们能有自主研发的光刻机，那将会节约一大部分的成本。
在之前我们一直向国外进口EUV光刻机，其中最主要的一个原因是因为这一类设备的相关技术比较复杂，是我国还没有掌握的。而且由于美国的制裁，我国对于这一类型的光刻机即使花钱大量资金情况下，在使用上也还有着非常大的阻碍，这导致我们遇到了在成本上不可控，以及在技术上未能掌握所陷入的一大困境。
不过，虽然EUV光刻机的确非常的厉害，在这一方面技术的掌握，更是使得贺兰的ASML企业成为了行业巨头，但实际上这一类光刻机并不是生产出高端芯片的唯一方式。除此之外，还有其他类型的光刻机仍然可以达到芯片研制，而我国现在就在这一方面达到了更大的突破。
我国新造的这一光刻机，它的名字叫做超分辨率光刻机，这是我们中国科学院的光电技术研究所在2019年的一大成就，而且现在我国的这一光刻机已经投入了使用，在后续还在实现更大的技术突破，并且会用在更多的行业之中。
虽然目前我国与这类光刻机使用的过程当中，还有需要改善的地方，在产能上可能不如EUV光刻机那么优异，但这也是我国目前在这一方面所达成非常不错的成就。我国目前所研制出的超分辨率光刻机主要运用在一些成熟的工艺当中，其中就包含了对于纳米功能器件的生产以及超表面成像器件的研制等等。
也就是在我国这一光刻机成功的同时，EUV光刻机也在面临它时代的落幕。其中尤其是它的成本太高，就已经让许多国家望而却步，而且对于我国来说也会受到一些限制，所以它不是最好的选择。
不过就目前来说，这一类光刻机不会迅速的淘汰，因为一台顶级的EUV光刻机始终包含了许多系统部件的支持，而且其中整合了10万个大大小小的零部件，是人类目前非常先进的一个光刻机设备。
但大家也应该认清的是，实际上这一类光刻机的原理并不复杂，它主要就是通过大功率的激光来轰击靶材料，在机关行政的过程当中经过投影等达成对于芯片的研制，所以对于它时代的落寞终究会来。
而超分辨率光刻机呢，则是采用表面的等离子体衍射光刻产生的等离子体，在有光刻胶的晶圆表面达成光刻，这与EUV光刻机有着一定的不同。
虽然我国新研制出来的这一光刻机，它的产能对于制造业广泛使用方面，并没有达到一个更厉害的效果，但是作为新一类的光刻机，它足以给EUV光刻机带来一个猛烈的冲击，也足以使今后我国在光刻机研制的过程当中有更大的信心。
随着我国在这一方面技术的不断提高，在未来我国一定能够研制出能够具备高端制程工艺的光刻机，使我们半导体行业的发展走向一个辉煌的阶段。
