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作者:管理员    发布于:2023-01-08 13:38:57    文字:【】【】【

  谁能够生产出更先进的芯片,谁就能够获得更多的订单、更高昂的利润,更是证明了一家企业和国家的科技水平,甚至能够提升一个国家的整体实力,但生产芯片是非常困难的,在目前的生产工艺当中,都需要用到光刻机,但在光刻机领域,荷兰的的阿斯麦公司一家独大,其他的芯片生产厂商都无法摆脱他,尤其是在高端光刻机领域,阿斯麦公司更是达到了垄断。

  可以说阿斯麦公司生产出来的高端光刻机,一机难求,需要提前很久预定,才有可能拿到。由于阿斯麦公司处于垄断地位,所以很多企业和国家都非常忌惮,要想办法超越阿斯麦公司,这样一方面可以获得很多订单,另一方面也不用被阿斯麦公司掣肘,其中我们国家的很多科技企业也提出了一些方案,由于EUV光刻机制造起来非常困难,所以想要通过其他路径生产高端芯片。

  其实阿斯麦公司在刚诞生的时候并不是光刻机行业龙头,在很早以前,佳能和尼康才是光刻机行业的龙头,他们连美国企业都能够打败,但是在后面的发展当中,走错了发展道路,从而被阿斯麦公司碾压了。虽然这几年佳能和尼康一直在奋力追赶,但销售量仍然无法和阿斯麦公司媲美,比如尼康拥有ArFi、ArF中端设备,i-line、KrF低端设备,但最主要的产品还是低端光刻机。而佳能为了能够夺回市场,正在和铠侠等企业进行合作,把资金放太阳2娱乐在了NIL纳米光刻技术上。

  目前的光刻机在生产芯片的过程中,主要使用光源曝光这一方式,而纳米压印光刻技术则是微电子技术和印刷技术进行结合,通过电子刻蚀技术加工出芯片的图案,从而完成芯片生产。按照理论来说。EUV光刻机的分辨率更低一些,NIL纳米技术的分辨率要高一些。如今,这两家企业已经在15纳米闪存上应用了相关技术。并且一直在把这项技术提升到更高的工艺上,有可能会在2025年应用在五纳米工艺当中。佳能看到了弯道超车的可能性,直接投资了500亿日元建立最新的厂房,想让NIL设备进行大规模的生产。如果真的如佳能预想那样,那么2025年将会出现一款实力强劲的产品,甚至能够抢夺阿斯麦公司高端光刻机的市场。在高科技行业,某个公司的垄断只是暂时的,因为技术更新太快了,阿斯麦公司也在遭遇一些冲击。

  不仅日本在对光刻机行业发起冲锋,美国更是不遗余力的加大投入。目前老美生产的一款光刻机能够生产0.768纳米芯片。这样的工艺程度就连阿斯麦公司最强的Hign-NA EUV光刻机都无法实现,美国光刻机采用了EBL电子束光刻技术,虽然这款光刻机生产出来的芯片非常先进,但也有明显的缺点,那就是产量很低,只能生产出数量很少的先进芯片,无法大规模的投入市场。

  其实,老美就算自己不生产光刻机,从阿斯麦公司那里购买也是没有没有问题的,但 阿斯麦公司毕竟属于荷兰企业,老美还是有些不放心。再说,老美的企业也想获得更高的利润,所以自己生产光刻机,这是必须要走的路子。另外,俄罗斯也在光刻机领域奋力追赶。之前,俄国官方声明,俄国对光刻机进行了研发,采用了X射线纳米芯片进行量产,预计会在2028年进入市场。

  当然作为中国人,我们自然会更关心中国的相关技术,而中国的技术也是进步非常快速的,由于中国的芯片是也遭受了老美的限制,所以国内的芯片技术正在设法赶超,如今上海微电子已经生产除了光刻机,能够加工90纳米的芯片。还有很多企业正在通力合作,向EUV光刻机发起了冲锋,在众多光刻机技术当中,等离子超分辨光刻机也是一种新兴的技术,能够生产22纳米的芯片,再加上多重曝光,可以将生产工艺提高到10纳米,中国的反超指日可待。

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