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作者:管理员    发布于:2023-01-16 21:01:57    文字:【】【】【

  作为一个20年半导体老兵,我直接来說目前国产光刻机,上海微smee的情況,依照smee之前发布的讯息,2022年底将完成193nmArF准分子激光浸润式光刻机的样机,如今项目如何了?

  再说明国产光科机的真实情况之前,作者先来谈谈这12月初也就是这两天美国与荷兰正在针对asml售中光刻机谈判的影响。

  这场谈判将决定未来中国芯片的生死,荷兰到底是拯救中国芯片的白马骑士还是索命死神?

  荷兰与米国这场光刻机的谈判,将是国内芯片行业生与死的分水岭。可能大家都没意识到这次谈判的严重性,但今天我与在业内的前同事聊了这件事,惊觉非同小可!

  据彭博社报道,荷兰外贸与发展合作部长施赖纳马赫尔11月22日告诉议员,在与美国和其他盟国的贸易规则谈判中,荷兰政府将就阿斯麦向中出售芯片设备的问题上,做出自己的决定。

  施赖内马赫说:“重要的是,我们要捍卫自己的利益、我们的郭嘉安全,但也要捍卫我们的经济利益。如果我们把它放在欧盟篮子里去与米国谈判,最后结果就是我们得把极深紫外线光刻机交给米国,我们的境况会更糟。”

  为什么荷兰官员誓死也要维护自己的利益,一切都是因为asml,我们来看看下面一张图就知道怎一回事了。

  半导体行业最难跨越的喜马拉雅山“光刻机”,目前只有一家单位在攻克光刻机那就是上海微smee,与其他设备或多或少有样机在demo的情况不太一样,光刻机至今为止都没有样机,包含能做到65nm的ArF dry 与能做28、14、10nm的ArFi 光刻机全部没有,甚至在上一代的248nm的krf光刻机也难寻踪影。

  对于国产光刻机,作者看了许多回答尽是故弄玄虚,什么利益相关,上下游相关的,也有科研系统的,各种云里雾里,我先说一下,我们的光刻机不需要任何保密,请问一下落后技术数代的技术要保什么密?如果米国知道我们193nmArF光刻机搞出来了,他们会出什么幺蛾子吗?

  我很正式的告诉各位,米国知道了也不会有任何反应,他们还是一如既往的封杀,我们做出来貨做不出来,对米国来说不影响他们的步调,而且咱们真做出来了,需要去fab试生产,需要在fab跟所有米国设备一起生产芯片,这一切都逃不过米国。

  光刻机不是核弹,只是有或者无的区别。光刻机做出来得先从试验机经过一代一代的改良变成量产机,这些步骤不可能秘密进行,因为都是需要与产线相结合的试生产,才能调适与改进,没有可能忽然宣布我们有一台量产没毛病的光刻机,这是不可能的事,最多就是宣布我们的试验机已经做出来或者通过验收。但大家得明白宣布样机成功与量产还有好几年的路要走。不是宣布了就有设备能用在产线上。

  所以只要在行业内,这些讯息都是对米国单向透明的,在网上谈保密简直就是天大的玩笑,咱们也得明白,我们国产光刻机里面的零配件大部分都得进口。重申一下,绝大部份零配件都是进口,这些零配件同样以美日为主。

  国产光刻机,落后数代的技术没有保密的需要,米国想要知道会比咱们网上讨论的更精细一百倍,所以更没有保密的必要。

  在10/7新规之后的此时此刻,smic、ymtc、北方华创,中微正开放自己的工厂以及数据,让美bis检查有没有违规,smee也一样,用以自证清白,希望能从 uvl 、实体清单中剔除自己或者避免自己变成实体清单,基本上都是查个底朝天,而网民们竟然在网路上谈保密?在这种说法在业内眼中,简直不可思议,难道我们的舆论对这些行业常识,或者针对美商务的基本认知是零吗?

  我希望此回答能端正视听,那些玄乎的云里雾里到,添油加醋的,盲目乐观的,从其他上下游相关自己臆测的,能尽量减少,我们需要正确的专业与正常的舆论。

  几年前smee那台号称90nm的ssx600通过验收合格,然后这一大帮人欢欣鼓舞媒体大书特书,紧接着这群人立马订定下一个更先进的目标,直接攻关193nmArF准分子激光浸润式光刻机,02专项继续风风火火攻关,形势一片大好。

  然而事实是那台ssx600把所有utility接上,除了认证那会开机跑了起来,至始至终躺在那,怎认证通过到咱们就不说了,你没跑产线,没有量测,没有上下道的工艺配合,最后芯片合格率、良率到底行不行,全部都没有,这样就验收了?敢情你们是能开机就可以验收是吗?

  当初在国科验收的NA0.75级镜头,某科院自己订一些指标,造本宣科走个流程就验收了,长光所上光所的院士们,难道你们擅长的就是立项与验收?你们会关心这玩意能在量产线上使用不?你知道这玩意能达到量产化指标吗?还是你们没有这能力?你们只会搞实验装置?又或者你们想说时间不够,先达成初步指标后面在慢慢优化?然而你们有去优化吗?

  这通过验收的所谓光刻机根本无法在量产线上跑,也从来没有跑过!而你们现在正式的想功克下兩代193nm ArFi 也就是媒体所谓的28nm光刻机,这不是天大的笑线nm都没正儿八经的跑过产线nm你都做不明白,竟然妄想去搞28nm?其实别说90nm,我们现在连更上一代的248KrF都没跑过,更遑论90nm。

  全球任何一家的前端半导体设备都是经过无数顶尖工程师,长时间不断的累积经验,不断的改善问题,不断的优化才达到今天的地步,你们这样就验收,完全不需要积累生产经验,然后攻关下一个技术?你们以为这跟你们以前搞的实验装备是一回事是吗?

  即便世界最牛的asml数千台设备在全世界各fab跑了好几年,他们至今还是有大量工程师在不断优化这些前几代的光刻机,这些设备通过与无数客户工程师,出现问题解决问题,每年软件的代码都不断的大量增加。

  再说一遍,设备真正在生产线跑,是全世界无数顶尖工程师,数十年不断优化来的,而我们一台设备验收了,就再也没人管。

  有人总是说业内太悲观,敢情完全违背科学常识的才叫不悲观?验收以后就扔在一旁,不进行优化不进行经验累积,这是属于悲观跟乐观的问题吗?这只是常识问题好吗!咱们再努力再厉害也得讲最基本的科学常识不是吗?并不是无脑吹捧才叫正常才叫不悲观。

  至于193nmArF准分子激光浸润式光刻机,也就是smee宣称能用在28nm的SSX800,也别说2022年底能不能出样机,现在也都12月了,我就问问,华卓的twinscan emc兼容解决了吗?国望的NA1.35镜头八字有一撇没?生产的洁净车间现在都还没盖好呢!科益的40w 4kHz ArF的光源intensity解决没?啥时候能达到60w 6kHz能用的标准?

  这些问题有没有长光所或上述单位的人来说说。别在以什么企业秘密来说搪塞,这些完全是国际落后技术,更不涉及米BIS的限制(差好几代),跟秘密能扯上边吗?以前都是还不能量产就先放消息各种突破,锣鼓喧天,怎现在反倒变成公司秘密不能说了?难道美bis没有去你们公司调查吗?你们没有拿出一切证据来证明自己没违规吗?既然你们都敞开了让美国商务部调查,怎转过身来跟民众说这是秘密呢?所谓企业秘密难道只是你们的遮羞布?

  smee的光刻机目前是所有国产设备最拉胯的,与其他设备或多或少都积极的demo不同,smee现在连拼凑无法用的样机都难产,我相信smee还快会推出样机来交差,并且锣鼓喧天国产光刻机终于出来了,我想应该明年怎样也得出来宣传一波,但这根本毫无意义,fab连demo都没办法的,一切都还是在他们小圈子里自嗨,重复之前那些套路而已。太阳2

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