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作者:管理员    发布于:2023-01-22 13:02:31    文字:【】【】【

  大家都知道,目前ASML在市场上地位颇为强大,尤其是因为ASML旗下拥有能够制造7nm以下工艺制程芯片的EUV光刻机,以至于在市场上有着绝对实力。

  即便是美国,目前也依旧没有自研出能够实现7nm工艺制程芯片量产的光刻机,因此,ASML几乎在EUV光刻机这方面几乎可以达到100%垄断市场。

  反观我国由于在大力推动科技发展阶段,以至于对于EUV光刻机的需求颇为巨大,但是很可惜,由于老美的阻拦,ASML无法向中国市场供应EUV光刻机。

  不过中国各大科技企业并没有选择放弃,反而是大力推动自研光刻机技术和先进工艺芯片量产技术,如今终于也是得到了不小突破。

  根据2023年1月份消息,我国成功自研新型光刻机超分辨率光刻机,相较比ASML的传统光刻机来说,几乎可以说是完全绕开了DUV光刻机的设计理念。

  超分辨光刻机通过超分辨光刻镜头,对晶圆进行高均匀性照明,并采用等离子超衍射光刻技术,通过产生的等离子体对晶圆进行光刻。

  较比于超分辨率光刻机来说,DUV光刻机的光源是准分子激光,并利用光的折射原理,以针对于芯片介质改变进行制造。

  而两者的波长也不同,超分辨光刻机的波长处于365nm,而DUV光刻机的波长处于193nm,由于波长越短分辨率越高的规律,超分辨光刻机的水平目前不如DUV光刻机。

  根据目前的消息称,超分辨光刻机能够实现22nm工艺芯片制造,未来更是可以加工10nm芯片,不过若是按照目前超分辨光刻机第一代的水准,依旧是可以支持加工10nm工艺芯片。

  只是原理和DUV光刻机加工7nm工艺芯片一样,需要通过多重曝光得到,不仅成本更高,量产的良率也颇为堪忧。

  当然,针对于超分辨光刻机是中国绕开ASML自研的成果,并且能够实现22nm工艺制程芯片量产,这对于我国芯片发展来说,无疑是踏出了颇为不错的第一步。

  而根据目前的消息显示,第一台超分辨光刻机已经验收成功,并且已经进入量产阶段,对于我国科技发展算是一个好消息。

  值得一提的是有位网友私信询问了一个问题,目前ASML依旧可以向我国供应DUV光刻机,那为什么还要自研不如DUV光刻机的超分辨光刻机呢?

  关于这个问题,想必所有清楚国际关系的都知道,原因有两点,其一是目前老美依旧在想尽办法“封锁”ASML向中国供应DUV光刻机的可能性,所以目前虽说ASML暂时可以供应,但后续就很难说了。

  其二就是如今无论是老美还是ASML,毕竟都是其他国家的企业,我国自身不具备制造光刻机的缺点,无疑可能将会成为被“卡脖子”的可能性,所以中国为了走向自给自足的最终结果,自研光刻机技术无疑是必经之路。

  自研超分辨光刻机第一代虽说无法比肩ASML的DUV光刻机,但这绝对算是一个好的起步,后续针对超分辨光刻机进行优化,比肩甚至超过DUV光刻机仅仅只是时间问题。太阳2娱乐

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