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作者:管理员    发布于:2023-01-23 21:22:36    文字:【】【】【

  美国封锁和打压我国的芯片产业,甚至先后发布限芯令和颁发芯片法案,还把台积电都威胁搬到了美国,在使绊子的前提下,我国还是排除干扰,造出新型光刻机,能够实现22NM工艺制程,现在已经投入使用。

  美国禁止世界上具有先进技术和设备的半导体公司,光刻机企业,和我国合作,生怕我国获得更好的技术,在研制方面转入快车道,赶超美国。

  美国很有信心封锁芯片相关领域的技术,因为芯片的制程方式必须依赖光刻机,如果切断供货渠道,自然就无法得到更好的设备,对于芯片来说,只有设计,没有精密机器进行加工,也是无法实现生产的。

  世界上目前精度最高的光刻机,内部一共多达十万多个零部件,也是人类能建造出来的最精密的仪器之一,全球范围内对于芯片生产的精度,已经达到了7NM制程,但是这也是经过了几十年的研发才取得的成就。

  像韩国三星电子和台积电,已经早在两年前就一直扬言要进行3NM芯片的量产,但是时至今日,还是没能实现大量的生产,可见精度越高,生产难度越大,良品率就越低。

  我国中科院光电研究所,现在通过自主研发,取得了技术突破,研发建造出国产的“新型光刻机”,也叫超分辨力光刻机。现在已经通过了各项测试,符合验收标准,已经开始投入使用。

  现在世界上的光刻机最先进的技术就在荷兰的阿斯麦公司,这种光刻机的设计建造原理,曝光方式和我国研发的不同。

  我国绕开了其科研方式,可以说是独辟蹊径另起炉灶,具有开创性的研究成果,和美国的电子束光刻机的科研方向趋同,属于更加先进的技术思路和研发方式。

  目前作为参照比较的话,美国的电子束光刻机,在实验室中实现了0.7NM芯片的制造,这个精度是让人震惊的,虽然没能达到量产,但是在研发成果和参考意义方面,都是具有非常重要的作用。

  我国如果继续在这个研发方向深耕和努力,将会取得更加喜人的成就。也会为我国芯片领域的研发工作,提供更加广阔的发展空间,和打下更加坚实的基础。

  现在中科院光电研究所的这种超分辨力光刻机,已经投入了使用,会在生产中不断进行优化和完善,为提升精度制程,做出更多数据积累和对比。

  全球精度最高的光刻机,是荷兰的阿斯麦生产0.55NAEUV光刻机,这个精度创造了世界之最,也是目前人类使用EUA光刻机能建造出来的纳米芯片极度上限了。

  然而美国的一家企业ZYVEX LABS直接超乎人们想象,研发电子束EBL光刻机,挑战精度制程的埃米级,让人震惊不已,这种光刻机的效能,是荷兰的EUA光刻机所无法达到的,也是科技发展的又一条新的路径。

  现在我国的超分辨力光刻机,就是趋同于美国的这种电子束光刻机的原理,可见剑走偏锋,还能继续挑战科技的上限,未来我国在光刻机方面一旦获得更好的进展,为制造精度更高的芯片,提供强有力的保障。

  那么美国的电子束光刻机竟然达到了科技天花板般的精度,后来者还有超越的空间和可能吗?实际上,美国现在的电子束光刻机,虽然精度上达到了超乎想象的程度,但是还是仅限于实验室中完成了生产,现在来看不具有量产芯片的能力,这就是这种光刻机的最大弱项。

  毕竟芯片需要大量的供应,才能对电子产品的换代,起到稳固的保障,如果只能少量的制造,对于整体芯片的精度升级,是杯水车薪的,只能在高精度仪器的定制方面去适应市场,那就是说暂时来看,美国的电子束光刻机无法和荷兰的光刻机进行PK,毕竟不具备量产实力。

  那么我国的超分辨率光刻机,在投入使用后,已经开始量产22NM的芯片,而且还会在不久的将来,尝试和突破量产7NM制程的芯片。看来我国的光刻机研发,还大有可为,而且如果能够突破量产的瓶颈,就会超越美国的电子束光刻机,一跃成为国际方面光刻机的新型技术代表。

  也期待我国的新型光刻机尽快完成升级,还能在现有基础上,取得更大的突破,打破西方国家的技术垄断,早日实现高精度芯片国产化!太阳2注册

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