你们有没有想过，光刻机是整个芯片最关键的一部分，但真正有能力生产的厂商，并不多。这其中有两个原因，一是技术的复杂性，二是技术研发的成本太高。

　　另一方面，光刻机的需求量并不大，因为没有足够的资金投入，没有人愿意投资。但是，随着光刻机的新规定的出台， ASML的两个结果，都在这一刻展现了出来！

　　到目前为止，只有三个国家的四家公司，可以生产出用于芯片的前道光刻机。荷兰 ASML在中高端光刻机上几乎是垄断的，而日本尼康，则是可以制造出中端 DUV光刻机，但其产能并不大。

　　日本佳能公司主要生产的是中低端的光刻机，而上海的微电子公司，目前也只有90 nm的生产水平，还没有出口。

　　ASML公司可以独做 EUV光刻机， DUV的市场占有率也很高，但他们的产品，并不是他们自己的。因为美国一直在限制我们的晶片开发，所以才会对 EUV进行限制，现在更是对 DUV进行了限制。

　　最近， ASML证实了他们之间的交易。这也就意味着，光刻机新产品的生产，已经敲定了下来。2018年时，美国阻止中芯国际取得 EUV，导致 EUV不准向中国企业出口产品。

　　之后，韩企业海力士在无锡的 SK工厂引入 EUV受到阻碍，甚至有外资企业在内地的芯片厂都无法使用 EUV。现在美国要限制 DUV，就有了对 DUV出口的规定。

　　此前 ASML之所以答应对 EUV进行限制，一是由于 EUV技术来源于美企业，二是国内 EUV市场的需求量尚不大，因此对 EUV实施管制后，收入受到的影响并不大。但是，如果对 DUV进行限制，那就不同了。

　　今天， ASML以 DUV为核心，在内地维持销售，目前已成为全球第三大发货地，每年约占总收入的15%。这可是一笔不小的数字，所以 ASML并不希望在这一块丢掉。

　　第一个结果：很快就会丧失市场，并逐渐衰落。美国十月份出台了一项新的出口控制规定，要求对14 nm以下的先进晶片生产设备进行出口，因此 DUV光刻机必须要受到限制。

　　其中，最重要的是 DUV光刻机中采用的 ArFi浸渍光刻机，可以实现45~7 nm制程芯片的制造。不过，受到冲击最大的还是 ASML，因为在2021年， ArFi有85部， ASML有81部，尼康只有4部。

　　这就是 ASML对于 DUV的限制有强烈的反应，并且一直反对扩展 DUV的限制。

　　现在， ASML必须要面对，接下来会发生什么，就看他们自己了。如果 ASML仅仅遵循了新的限制规则，那么它很快就会丧失第三大市场，从而导致收入下降。

　　ASML总裁最近说过，如果完全禁止的话，将会加快中国企业的发展速度，让他们的光刻机，达到与 ASML抗衡的水平。内地的市场很大，中企光刻机的技术，肯定能在很短的时间内，占据上风。

　　第二个结果：基本上维持原状，或者能够持续发展。ASML显然不希望看到这种情况，所以他们一定会想方设法，避开这个限制。美公司英伟达已经发布了专门的芯片， ASML也可以仿效。

　　既然美国的规定是14 nm以下的工艺，那么将 ArFi调到14 nm以上， ASML就可以量产了。这样的话，应该不会有什么问题。

　　我们的重心是28 nm的成熟工艺，并且没有受到任何的影响。ASML可以维持现状，继续发展。

　　ASML对内地市场的关注，是由于我们的发展， DUV光刻机的需求量不断增加。在 EUV领域，台积电，三星，英特尔等公司正在削减开支，或者推迟生产。

　　ASML也因此大规模生产 DUV，并计划在2025年交付600部 DUV。一旦受限于出货，该目标很难达到，而且已经投入的资金也会因此而受损。

　　根据内部人士的说法， ASML看起来正在做出一些调整。所以外国媒体说， ASML已经决定了！