据我了解，中国的科技实力一直在不断提升，并且有着强大的研发实力和技术能力，未来仍有可能在光刻机领域取得突破。然而，光刻机是一项极为复杂的高科技，需要大量的资金、团队、设备和技术支持，对研发能力和制造水平要求极高。中国虽然在许多领域都有突出的表现，但是想要在光刻机领域追赶上世界先进水平还需要时间和努力。

　　无论如何，中国政府和企业都在不断加强光刻机领域的投入和研发，这标志着中国正朝着成为高端芯片制造强国的目标迈进，未来仍然有很大的发展空间和机遇。同时，全球的光刻机制造商也在不断竞争和创新，这也使得中国要想追赶上先进水平面临着很大的挑战。但是，中国的一些科技巨头正积极探索解决方案，如京东方、华为、中芯国际等公司都在加强与国外企业的合作，引进先进技术，并逐步提升国内技术人才的能力。

　　此外，中国政府也在加强政策支持，推动高端芯片制造产业的发展，为研发和生产提供了更多的资金和政策支持。这些努力将有助于中国在高端芯片制造领域取得更快的进展。

　　综上所述，虽然中国在三年前提出了能够在三年内研发和制造光刻机的目标，但要实现这一目标仍然需要时间和不断努力。无论如何，中国在高端芯片制造领域的投入和努力将会在未来产生积极的效果，中国将会在高端芯片制造领域取得更大的进展。